微纳 3D 打印系统

nanoArch® P130

nanoArch® P130 系统简介

nanoArch P130 是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻(PμLSE:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。


科研级 3D 打印系统

nanoArch P130 是科研级 3D 打印系统,拥有 2μm 的超高打印精度和 5μm 的超低打印层厚,实现超高精度的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。

nanoArch® P130 系统性能

光源:UV-LED(405nm)

打印材料:光敏树脂

光学精度:2μm

打印层厚:5μm~20μm

打印样品尺寸:3.84mm(L) × 2.16mm(W) × 10mm(H)

打印文件格式:STL

系统外形尺寸:1720mm(L) × 750mm(W) × 1820mm(H)

重量:450kg

电气要求:200~240V AC,50/60HZ,3KW

系统特点

高精度
(光学精度高达 2μm)

低层厚
(5μm~20μm 的打印层厚效果对比)
点击查看

微尺度打印能力

光学监控系统,自动对焦功能

配置气浮平台,提高打印质量

优良的光源稳定性

打印材料

通用型:
高精度硬性光敏树脂。

个性化:
405 nm 固化波段的光敏树脂材料,支持韧性树脂、PEGDA、耐高温树脂、生物医用树脂等,需适配不同的工艺和模型 (不保证打印性能)。