微纳 3D 打印系统

nanoArch® P150

nanoArch® P150 系统简介

nanoArch P150 是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻(PμLSE:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。


科研级 3D 打印系统

nanoArch P150 是科研级 3D 打印系统,拥有 25μm 的光学打印精度和10μm的超低打印层厚,并支持12款打印材料,从而实现高精度样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。

nanoArch® P150 系统性能

光源:UV-LED(405nm)

打印材料:光敏树脂

光学精度:25μm

打印层厚:10~50μm

打印样品尺寸:48mm(L) × 27mm(W) × 50mm(H)

打印文件格式:STL

系统外形尺寸:520mm(L) × 530mm(W) × 680(H)mm

重量:90kg

电气要求:100~240V AC, 50/60HZ, 1.5KW

系统特点

高精度
(光学精度高达 25μm)

低层厚
(10μm~50μm 的打印层厚)

微尺度打印能力

可支持 12 款打印材料

优良的光源稳定性

打印材料

通用型:
高精度硬性光敏树脂。

个性化:
405 nm 固化波段的光敏树脂材料,支持韧性树脂、PEGDA、耐高温树脂、生物医用树脂、柔性树脂、水凝胶、透明树脂、低收缩树脂、二氧化硅掺杂树脂、二氧化锆掺杂树脂等其他功能树脂。