微纳 3D 打印系统
nanoArch® 是采用 PμLSE（面投影微立体光刻）技术，用于实现高精度多材料微纳尺度 3D 打印的设备。通过将紫外光投影到液态树脂表面使其固化，逐层累加从而完成产品的制作。通过一次曝光可以完成一层的制作。
BMF 产品
nanoArch® 是采用 PμLSE（面投影微立体光刻）技术，用于实现高精度多材料微纳尺度 3D 打印的设备。通过将紫外光投影到液态树脂表面使其固化，逐层累加从而完成产品的制作。通过一次曝光可以完成一层的制作。
BMF 产品
采用面投影微立体光刻（PμLSE：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技术，实现高精度 3D 打印。
该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将打印图案投影至树脂槽液面，於液面固化树脂，并快速成型微立体，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
可定制高定位精度的光学系统和运动平台，两者最高分辨率皆可达到 20μm。
采用图像拼接成型方式，解决成型精度与大尺寸成型之间的矛盾。
通过工艺技术控制，实现 3D 打印成品的表面光滑。
光学实时监控，实现自动对焦及曝光补偿。
nanoArch 图形界面控制系统，参数端口开放。
